離子鍍（dù）膜機（jī）塗層特點

真空鍍膜設備離子鍍膜機與蒸發鍍膜機（jī）、濺射鍍膜機相比，最大的（de）特點是荷（hé）能離（lí）子一邊轟擊基（jī）體（tǐ）與（yǔ）膜層，一邊進（jìn）行沉積（jī）。鍍膜生（shēng）產過程中對鍍膜層厚度均勻性（xìng）檢測至（zhì）關（guān）重要，真（zhēn）空鍍薄膜可以通過透光率（lǜ）光（guāng）密度光學性能來檢測鍍膜（mó）層厚度的均勻性，目前市場上（shàng）林（lín）上（shàng）科技有一款專業的在（zài）線塗層測厚儀（yí）可連續監控鍍薄膜在線（xiàn）生產的鍍膜品質。

荷能離（lí）子（zǐ）的轟擊（jī）作（zuò）用所產生一係列的效應，主（zhǔ）要有如下幾點：
       1：膜/基結合力（附著力）強，膜層不易脫落。由於離子轟擊基體（tǐ）產生的濺射（shè）作用，使基（jī）體受到清洗，激活（huó）及加熱（rè），既可以（yǐ）去除基體表麵吸附的氣體和汙染層，也可以去除基體表（biǎo）麵的（de）氧化（huà）物。離子轟擊（jī）時鏟射的加熱和缺（quē）陷可（kě）引起基體的增強（qiáng）擴散效應。既提高了基體表麵層組織結晶性能，也提供了合（hé）金相形成的條件。而且，較高能量的（de）離（lí）子轟擊（jī），還可以產生（shēng）一定的離子（zǐ）注入和離子束混合效（xiào）應（yīng）。
       2：離子鍍膜機（jī）由於產（chǎn）生良好的（de）繞射（shè）性（xìng）。在壓力（lì）較高的（de）情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽（qì）的離子或（huò）分子在到達基體（tǐ）前的路程上將會遇到氣體分（fèn）子的多次碰撞。因此，可使膜（mó）材粒子散射（shè）在基體的周圍。從而改善了膜層（céng）的（de）覆（fù）蓋性。而且（qiě），被電離的（de）膜材（cái）離子，還會在電廠的作（zuò）用下沉（chén）積在具有負電（diàn）壓基體表麵的任（rèn）意位置上。因此，這（zhè）一（yī）點蒸（zhēng）發鍍（dù）是無法達到的（de）。
       3：鍍層質量（liàng）高。由於離子轟擊可提（tí）高（gāo）膜的致密度，改善膜（mó）的組織結構（gòu），使得膜（mó）層（céng）的均勻度好（hǎo），鍍層組織（zhī）致密，針孔（kǒng）和（hé）氣泡少。因（yīn）此，提高（gāo）了膜層（céng）的質量（liàng）。
       4：沉積速率高（gāo），成膜（mó）速（sù）度快，可製備30um的（de）厚膜（mó）。
       5：鍍膜所適用的基體材料與膜（mó）層材料均比較廣（guǎng）泛（fàn）。適用（yòng）於在金屬或非金屬表麵上鍍製金屬、化合物、非金屬（shǔ）材料的膜層。如在鋼鐵、有色金屬、石英（yīng）、陶瓷（cí）、塑料等（děng）各種材料表（biǎo）麵鍍（dù）膜。由於等離子體的活性有利於降低化合物的合成溫度（dù），因此離子鍍（dù）比（bǐ）較容（róng）易地鍍製（zhì）各種吵（chǎo）硬化合（hé）物薄膜。
       由於離子鍍膜機具有上述特點，所以其應用範圍極為廣（guǎng）泛。利（lì）用離子鍍技（jì）術可以（yǐ）子在金屬、合金、導電材料甚至非導電材料（采（cǎi）用高頻偏壓）基體上進行鍍膜（mó）。離子鍍沉積的膜層可以是金屬膜、多元合金膜、化合物膜；既可鍍單一鍍（dù）層，也可鍍複合膜層（céng）；還（hái）可以鍍梯度鍍（dù）層和納米多層鍍層。采（cǎi）用不同的膜材，不（bú）同的反應氣（qì）體以及（jí）不（bú）同的（de）工藝方（fāng）法和參數，可以獲得表麵強（qiáng）化的（de）硬質耐（nài）磨鍍層，致密（mì）且化（huà）學性質穩定（dìng）的耐蝕（shí）鍍層，固（gù）體（tǐ）潤滑層，各種色（sè）澤的（de）裝飾鍍層（céng）以及電子學、光學（xué）、能源（yuán）科學（xué）等所需的特殊功（gōng）能鍍層。離子鍍技（jì）術和離（lí）子鍍的鍍層產品已得到非常廣泛的應（yīng）用。